鼎龙股份

2026-05-07
公司公告 L2-02-半导体设备与材料 鼎龙股份-300054南大光电-300346盛美上海-688082
利好

影响行业

1 个

半导体设备与材料

EUV光刻机由ASML垄断,高端光刻胶被日本JSR/TOK/信越控制,设备整体国产化率仅13.6%

部分填充 L2 2026-05-12

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2026-05-07 鼎龙股份 三类抛光液产品取得重大进展并获得订单

事件描述

公司公告三类抛光液产品取得重大进展并实现订单导入,CMP材料平台化能力继续增强。

关键数字

  • 抛光垫26Q1同比+71%
  • 抛光液26Q1同比+54%
  • Q2氧化铈产品开始有订单

影响判断

影响:利好 抛光液/垫放量→半导体材料国产替代加速→收入弹性提升

关联

  • 行业:L2-02-半导体设备与材料
  • 公司:鼎龙股份-300054, 南大光电-300346, 盛美上海-688082

信息源

  • 巨潮资讯 / 关于公司三类抛光液产品取得重大进展并获得订单的公告

备注

订单进展直接对应先进制程CMP材料导入逻辑。