半导体设备与材料
EUV光刻机由ASML垄断,高端光刻胶被日本JSR/TOK/信越控制,设备整体国产化率仅13.6%
EUV光刻机由ASML垄断,高端光刻胶被日本JSR/TOK/信越控制,设备整体国产化率仅13.6%
头部晶圆厂为集中资源发展高利润业务,主动缩减成熟低毛利产线,导致成熟制程供需缺口扩大。IC设计端自2025Q2起营收与毛利持续下行,上下游盈利走势显著分化。晶圆代工涨价预警触发Fabless在110/130nm集中投片锁定产能。
影响:中性 AI/汽车需求驱动先进制程扩产→成熟制程产能主动收缩→成熟制程涨价→IC设计厂商利润承压→产业链利润向上游集中
需关注下游Fabless提价转嫁能力及消费电子需求恢复节奏