半导体设备与材料
EUV光刻机由ASML垄断,高端光刻胶被日本JSR/TOK/信越控制,设备整体国产化率仅13.6%
EUV光刻机由ASML垄断,高端光刻胶被日本JSR/TOK/信越控制,设备整体国产化率仅13.6%
高端CCL材料(M8/M9级低损耗树脂)国产化刚起步;PPO树脂/低Dk玻纤原料长期被日本企业垄断直至近年突破
算力基础设施持续升级,高端PCB价值量跃升 + “算力+传输”双轮驱动,产品矩阵拓宽
随着AI服务器对信号传输速率要求不断提升,PCB板材和材料迎来规格升级,高盛和花旗最新报告指出高速铜箔可能成为新的供应瓶颈,其需求年复合增速高达30-40%。下游旺盛的需求已传导至设备端,国内头部PCB设备厂商业绩和在手订单均高速增长,验证了整个PCB产业链受益于AI驱动的高景气周期。
影响:利好 AI服务器要求更高阶PCB -> 对高速铜箔等核心材料需求激增 -> 特定材料出现供应瓶颈,利好相关供应商 -> PCB设备厂商订单饱满,业绩兑现。