半导体设备与材料
EUV光刻机由ASML垄断,高端光刻胶被日本JSR/TOK/信越控制,设备整体国产化率仅13.6%
EUV光刻机由ASML垄断,高端光刻胶被日本JSR/TOK/信越控制,设备整体国产化率仅13.6%
CUDA软件生态(400万+开发者)构成NVIDIA最深护城河;国产芯片先进制程受限(依赖中芯国际7nm);软件栈(CANN/Cambricon Neuware)与CUDA生态差距仍大
华为提出韬定律作为摩尔定律的补充/替代路径,通过架构创新和系统集成实现等效制程提升。中芯国际先进产线2026-2028年逐步投产并快速爬坡,8英寸BCD工艺已发布涨价通知。先进制程供给不足与成熟制程整合并行,半导体开启双轨共振新周期。
影响:利好 华为韬定律→国产先进制程路径明确→中芯国际等代工厂受益→国产AI芯片性能追赶加速→半导体设备/材料国产化需求提升
韬定律实际技术可行性和产业化进度需持续跟踪;中芯国际毛利率改善预期需等后续季报确认