半导体设备与材料
EUV光刻机由ASML垄断,高端光刻胶被日本JSR/TOK/信越控制,设备整体国产化率仅13.6%
EUV光刻机由ASML垄断,高端光刻胶被日本JSR/TOK/信越控制,设备整体国产化率仅13.6%
国内 SiC 衬底国产化第一 + 8 英寸先发优势, Wolfspeed 破产腾出全球份额历史窗口
2025年9月至2026年1月,全球宣布的8吋SiC FAB扩产产能合计243.4万片/年,而2025年全球8吋SiC衬底产量预计少于40万片。主要扩产计划包括意法半导体72万片/年、士兰微72万片/年、安意法52万片/年、时代电气36万片/年,且该统计未包含英飞凌、博世、安森美等头部大厂。三星也在重启8吋SiC产线建设。下游FAB大规模扩产将拉动衬底需求预计增长超7倍,并同步带动长晶与加工设备需求爆发。
影响:利好 AI电源与车规需求拉动→8吋SiC芯片需求爆发→全球FAB大扩产→SiC衬底需求超7倍增长→SiC长晶与加工设备需求同步爆发。 直接受益: 天岳先进-688234(国内8吋SiC衬底领先供应商,深度受益衬底需求倍增)。 未入 KB 待评估: 晶升股份, 晶盛机电
SiC暂无直接KB行业映射,已归入L2-02-半导体设备与材料。建议跟踪8吋SiC良率提升进度、衬底价格下行速度及国产设备导入情况。