半导体设备与材料
EUV光刻机由ASML垄断,高端光刻胶被日本JSR/TOK/信越控制,设备整体国产化率仅13.6%
EUV光刻机由ASML垄断,高端光刻胶被日本JSR/TOK/信越控制,设备整体国产化率仅13.6%
CoWoS产能紧张(台积电2024年产能7万片/月→2026年12.5万片/月,英伟达独占63%产能);高端封装材料国产化率低(EMC全球前三日韩占75%,ABF基板味之素/台湾垄断95%)
技术领先优势持续巩固 + 全球产能战略布局深化
技术平台化拓展,从刻蚀向薄膜、量/检测等领域延伸 + 国内半导体设备市场渗透率提升是长期确定性趋势
国产化率提升驱动份额增长 + 平台化布局进入收获期
受益于先进制程工艺演进,单客户价值量提升 + 半导体设备国产化率从“低”到“中”的必经之路
半导体设备国产化率从个位数向20%+跨越 + 从清洗平台向湿法工艺平台拓展
Chiplet与先进封装技术成为算力时代核心 + 汽车电子与存储封装开辟第二增长曲线
AMD宣布代号Venice的下一代EPYC处理器已在台积电2nm工艺上启动量产爬坡,系业界首款2nm量产HPC产品;台积电2nm首年产能较3nm量产首年提升45%
影响:利好 2nm量产→先进制程需求爆发→半导体设备/材料/先进封装产业链受益
台积电CoWoS先进封装产能2022-2027年CAGR超80%