半导体设备与材料
EUV光刻机由ASML垄断,高端光刻胶被日本JSR/TOK/信越控制,设备整体国产化率仅13.6%
EUV光刻机由ASML垄断,高端光刻胶被日本JSR/TOK/信越控制,设备整体国产化率仅13.6%
MPCVD 大腔体设备国产化率不足 20%, 12-18 个月交付周期与 8 英寸金刚石片热导率均匀性是商业化卡脖子环节
国内 CVD 金刚石散热龙头, 散热片热导率 2000W/mK (5x 铜) 通过海外客户测试, 12 寸金刚石衬底批量制备能力具备「AI 散热革命」技术稀缺性
超硬刀具高端定制壁垒 + CVD金刚石散热材料先发验证窗口,客户粘性高、替代难度大
中泰证券发布研报称,AI芯片功耗激增正推动散热材料升级。预测全球金刚石散热片市场规模将从2026年的87亿元(渗透率5%)跃升至2030年的592亿元,年复合增速超50%。当前英伟达GB200单卡峰值功耗突破2000W,传统铜散热接近物理极限,金刚石材料凭借超高导热率成为刚需。
影响:利好 英伟达Rubin系列功耗激增 → 传统铜基散热失效 → 金刚石散热材料渗透率快速提升(2026年5%→2030年80%) → 拉动MPCVD设备、金刚石微粉、热沉片全产业链。 直接受益:
- 四方达(300179):金刚石复合材料龙头;
- 沃尔德(688028):CVD金刚石超硬材料布局。 未入KB待评估:国机精工、惠丰钻石。
行业规模为券商测算值,CAGR超50%属超高景气。建议跟踪MPCVD设备降本、铟资源在金刚石制备中的应用及英伟达散热方案实际导入进度。关联行业:L2-21-CVD金刚石散热,L2-02-半导体设备与材料。