半导体设备与材料
EUV光刻机由ASML垄断,高端光刻胶被日本JSR/TOK/信越控制,设备整体国产化率仅13.6%
EUV光刻机由ASML垄断,高端光刻胶被日本JSR/TOK/信越控制,设备整体国产化率仅13.6%
CoWoS产能紧张(台积电2024年产能7万片/月→2026年12.5万片/月,英伟达独占63%产能);高端封装材料国产化率低(EMC全球前三日韩占75%,ABF基板味之素/台湾垄断95%)
AI基础设施(算力服务)构建护城河 + 行业渗透与平台化
IC载板国产替代核心受益标的 + AI驱动先进封装需求
封装基板国产替代的领军者 + 高端PCB技术壁垒构筑长期护城河
CoWoS不是简单扩产逻辑,而是“扩产依然填不满需求”,尤其英伟达与ASIC共同分食产能,先进封装仍是AI芯片放量最硬瓶颈之一
影响:利好 CoWoS供给偏紧→GPU/ASIC交付节奏受约束→带动封装设备、材料、ABF基板和替代技术CoPoS机会
CoPoS中试线预计2026年6月完工,但大规模量产在2028-2029年,短期无法显著缓解CoWoS缺口