半导体设备与材料
EUV光刻机由ASML垄断,高端光刻胶被日本JSR/TOK/信越控制,设备整体国产化率仅13.6%
EUV光刻机由ASML垄断,高端光刻胶被日本JSR/TOK/信越控制,设备整体国产化率仅13.6%
CoWoS产能紧张(台积电2024年产能7万片/月→2026年12.5万片/月,英伟达独占63%产能);高端封装材料国产化率低(EMC全球前三日韩占75%,ABF基板味之素/台湾垄断95%)
国内 SiC 衬底国产化第一 + 8 英寸先发优势, Wolfspeed 破产腾出全球份额历史窗口
华西证券研报指出,碳化硅(SiC)衬底在CoWoS先进封装与AR眼镜领域的两大新应用将打开巨大市场空间。台积电已对12吋SiC中介层衬底提出明确需求,2026年开启交付,2027年需求量预期翻倍。按75% CoWoS替换SiC interposer推演,2030年对应369万片12吋SiC衬底需求,市场规模超700亿元。AR眼镜远期出货量有望超6000万副,催生约600亿元SiC衬底需求,其中Meta Orion已采用SiC波导技术实现70°视场角。
影响:利好 因果链:AI芯片功耗与尺寸持续增长 → CoWoS interposer散热压力剧增 → SiC凭借热导率490W/mK、硬度9.5等特性成为替代硅/玻璃的最优解 → 12吋SiC衬底新需求爆发 → SiC材料市场天花板大幅抬升。 直接受益:天岳先进 688234(国内SiC衬底龙头,已向台积电送样验证)。 未入 KB 待评估:晶升股份(688478.SH)、晶盛机电(300316.SZ)、三安光电(600703.SH)。
碳化硅无直接对应KB行业,暂用L2-02-半导体设备与材料,建议跟踪后续SiC专项。短期关注送样验证进度与12吋SiC良率、成本下降节奏。