半导体设备与材料
EUV光刻机由ASML垄断,高端光刻胶被日本JSR/TOK/信越控制,设备整体国产化率仅13.6%
EUV光刻机由ASML垄断,高端光刻胶被日本JSR/TOK/信越控制,设备整体国产化率仅13.6%
GPU 供给(出口管制)+ 模型生态适配 + 客户大模型/Agent 黏性
工业温控向高价值场景渗透,客单价持续提升 + 温控技术平台化,复用能力构筑壁垒
受益于AI算力与能源结构转型双重驱动 + 储能温控打造第二增长曲线
液冷成为数据中心散热主流技术路径 + 新能源业务构筑第二增长曲线
液冷技术渗透率提升,公司从材料商向解决方案商升级 + 绑定全球头部客户,平台化供应能力构建护城河
AIGC算力建设的长期受益者 + 国际化战略打开成长天花板
英伟达Rubin GPU功耗跃升至2300W,传统冷板散热接近物理极限,微通道液冷(MLCP)成为高端AI服务器主流散热形态。下一代MCL方案预计2027H2量产。谷歌TPU v8采用第四代液冷架构,金刚石散热技术持续推进。
影响:利好 GPU功耗跃升→液冷从可选变为必选→微通道/直接液冷技术迭代加速→散热产业链价值量大幅提升
技术路线确定性高,需关注微通道冷板量产良率